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最近由于美国宣布对中兴,华为等企业***取出口管制措施,全民开始关注国产芯片的状况。下面将简单讨论一下目前国产芯片的情况:中国芯片制造的短板在哪里?以及我们什么时候能真正实现芯片制造全部国产化?
芯片、集成电路还是半导体?
对于普通人而言,这些专业词汇一般可以混用,没有多大区别,但集成电路范围更广泛。
集成电路一般是指通过特定的制造工艺把晶体管,电阻,电容等电子元件连接,并集成在一小块硅基半导体晶片上,最后封装成具有一定功能的微型器件。
芯片则指内含集成电路的半导体晶片(常见的为硅片),是集成电路的物理载体。而半导体则是一种导电性能介于绝缘体和导体之间的材料,最常见的硅系,包括锗,砷化镓,氮化稼等,用于制造芯片。
芯片制造技术含量十分密集,包括芯片设计、晶元制作、加工、刻蚀、封装测试等过程。其每一步都有相应的行业垄断企业,国内的相关企业主要集中在中低端,低成本等环节,比如晶元代工,封装等。而像芯片设计等高端产业基本都集中在国外,比如荷兰ASML,IBM,Intel等巨头。当然,我们国家目前也有一些企业在迎头赶上,比如华为海思,中芯国际,中微等等。另外,该行业又属于资金密集型,生产线动辄数亿美元且利润率又没有捣鼓房地产煤油等行业高,导致一般的企业并不愿意投入很大资金,长此以往,恶性循环,导致跟行业高端差距越来越大。
芯片制造卡脖子技术之一“光刻机”
光刻机,这个由于其巨大的制造难度,经常被拿来于航空发电机相比,也被冠以“工业***上的明珠”的称号。目前最先进的光刻机动辄就是过亿美元一台,还得求着人家卖给咱。l大家应该有了解到之前中芯国际购买的荷兰ASML的EUV光刻机,由于种种原因仍未到货(由于美国的制裁)。
芯片的集成程度取决于光刻机的精度,精度越高,可以制造的晶体管数目越多,那么芯片的功耗越低,性能越强。而目前世界上80%的光刻机市场都被荷兰的ASML占据,高精度光刻机更是被其垄断。尽管中国仍在努力追赶,但仍然与国外存在技术代差。尽管有时候我们会看到媒体报道,某研究所开发出5纳米或者2纳米晶体管的新闻,但这只是在实验室阶段,距离产业化还相差甚远。
国产芯片制造究竟
芯片制造依赖光刻机机,而咱们回家没有高精度的光刻机,所以很难超越别的国家的芯片技术,
美国为了限制华为发展,还专门规定光刻机等技术需要经过美国的同意才能出口,
为此,芯片制造是真的很难。
如今芯片制造工艺要求越来越高,目前国际成熟的制造工艺为7nm,而且5nm技术已经在验证阶段,即将可以实现量产!1nm=10^-9m,可见纳米的单位是非常小的!人的细胞直径约10~20μm,1μm=1000nm!可见芯片制造工艺比细胞小1000倍以上!可以想象它到底有多难?
一个指甲盖大小的芯片可以容纳几十亿个晶体管,每个晶体管都是纳米级别!可见芯片制造工艺要求有多高、芯片制造有多难!正因为如今芯片越做越小、功能越来越强大,电子产品才能做到小巧、轻便、功耗低。大家还记得刚出来的大哥大吧,据说犹如砖头大小,十分笨重!而且价格很高,几万块一个,一般要2万5左右才能买得到!80年代2万5相当于现在200万以上!普通老百姓根本买不起!以前的大哥大手机功能单一,只能打电话,而如今的智能手机功能做得很强大,相当于一台微型电脑,可以做到如此轻薄,正是芯片技术发展的缘故。
芯片制造需要经过十分复杂的工序,比如电路设计、晶圆、流片、制程、封装、光刻、抛光等都是十分复杂的技术活!芯片制造需要经过十几道工序,而且芯片制造还需要几十种高端的仪器设备,比如光刻机、等离子刻蚀机、离子注入机、单晶炉、晶圆划片机、晶片减薄机、氧化炉、激光退火设备、低压化学气相淀积系统、化学机械研磨机、引线键合机、探针测试台等,其中光刻机设计制造最难!没有光刻机,芯片就无法生产,这就是先进国家对我们进行技术封锁,不卖给我们光刻机的原因!给再多的钱也不卖给你!目的就是为了限制你发展!
美国对中国进行全面技术封锁,买不到进口芯片,只能靠自己,自力更生。华为也将面临着同样的困境!美国禁止台积电等企业给华为提供芯片,没有了芯片,华为该何去何从?华为很多电子产品将面临停工,只能寻求出路,使用中芯国际等生产出来的产国芯片进行替代!好在华为早就意识到了这一步,已经提前储备了大量的美国关键芯片,可以足够缓两三年的时间,经过两三年的迭代验证,国产芯片完全可以衔接上。
华为加油!中国加油!不畏惧困难,勇往直前!科技强大了,国家才足够强大!
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